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        美官員:繼續限制ASML與中國大陸合作,是總統國安顧問首要任務

        時間:2021年07月19日 14:40:50 中財網
          極紫外光刻機(EUV)是芯片工藝向7nm以下發展必不可少的工具,平均每臺售價超過12億元人民幣。

          中芯國際需要借助EUV制造更先進的芯片,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)也希望賣出更多的設備來攤薄研發成本。但由于美國從中作梗,雙方一直無法達成交易。

          “出口管制將加快中國自主研發,15年時間里他們將做出所有的東西”、“中國完全自主掌控供應鏈之后,歐洲供應商將徹底失去市場”,雖然阿斯麥CEO溫彼得接連表達焦慮,但美國依舊選擇視而不見。

          據美媒《華爾街日報》7月17日報道,一位美國官員透露,拜登政府在確認EUV光刻機在科技產業中的戰略價值后,選擇延續特朗普時期的政策。白宮官員已與荷蘭政府進行接觸,并以國家安全為由要求荷蘭方面限制向中國大陸出售EUV。

          
          《華爾街日報》報道截圖
          報道披露,拜登正式就職還不到一個月,其國家安全顧問杰克·沙利文已就“在先進技術方面的密切合作”與荷蘭方面進行交談。美國官員透露,繼續限制阿斯麥與中國大陸的合作,是沙利文的首要任務。

          目前,全世界只有阿斯麥一家企業可以生產EUV光刻機。在全球范圍內,無論是美國的英特爾、韓國的三星,還是中國臺灣的臺積電,都可以自由購買重達180噸的EUV去制造高端電子設備的芯片。

          但荷蘭政府在美國壓力下,一直沒有批準向中國大陸出口EUV。

          美國對荷蘭政府的施壓早在特朗普任期內便已開始。

          據時任美國副國家安全顧問的查爾斯·庫珀曼(Charles Kupperman)回憶,他2019年曾邀請荷蘭外交官前往白宮,并向后者施壓,稱“忠實的盟友”不會向中國大陸出售EUV這類設備。庫珀曼還警告荷蘭方面,如果沒有美國的零部件,阿斯麥的設備就無法運轉,而白宮有權限制這些零部件向荷蘭出口。

          報道援引知情人士稱,限制向荷蘭出口技術目前并不在白宮的討論范圍內。但美國正試圖召集西方國家的聯盟,就出口管制問題進行合作。此舉可能對EUV光刻機以外的領域產生影響,進一步攪亂世界各地本已承壓的半導體供應鏈。

          
          阿斯麥NXE3400極紫外光刻機內部結構 圖片來源:公司官網
          阿斯麥財報披露,過去的2020年,該公司在中國大陸的營收和出貨量均創下歷史新高。2021年一季度,阿斯麥共向中國大陸出貨光刻系統約11臺,占比15%在全球排名第三(前兩名是韓國和中國臺灣),但這其中并沒有EUV。

          在阿斯麥CEO溫彼得看來,美國的出口管制措施可能會適得其反。

          “當涉及有針對性的、具體的國家安全問題時,出口管制是一種有效的工具,”溫彼得在一份聲明中表示,“然而,作為更廣泛的國家半導體領導戰略的一部分,政府需要考慮如果這些工具過度使用,會如何通過減少研發投入來減緩中期創新?!彼€補充稱,在中短期內,過度使用出口管制可能會減少全球芯片制造產能,并加劇供應鏈問題。

          一直未批準向中國大陸出口EUV,也讓中荷關系出現裂痕?!度A爾街日報》援引所謂知情人士稱,中方官員時常會詢問荷蘭政府,“為什么不授予阿斯麥將設備運往中國大陸的許可”。

          去年12月,中國駐荷蘭大使館發言人曾指出,中方堅決反對任何第三方對荷蘭政府施加政治壓力,迫使荷方違背自身利益作出決定。這必將導致對各方都不利的后果,也必將對國際貿易秩序帶來負面影響。

          
          中國駐荷蘭大使館網站截圖
          盡管光刻機是半導體設備中的一個難點,但中國大陸一直沒有放棄自主研發。

          2020年6月,方正證券在一份研報中提到:“在國家02專項光刻機項目二期中,設定的時間為2020年12月驗收193nmArF浸沒式DUV光刻機,其制程工藝為28納米,對標產品為ASML現階段最強DUV光刻機:TWINSCANNXT:2000i。以NXT:2000i為例,各子系統拆分如下:上海微電子負責光刻機設計和總體集成,北京科益虹源提供光源系統,北京國望光學提供物鏡系統,國科精密提供曝光光學系統,華卓精科提供雙工作臺,浙江啟爾機電提供浸沒系統?!?
          今年6月8日,英國科技媒體“VERDICT”在一篇報道中稱,上海微電子計劃在今年底推出一臺國產28nm DUV光刻機,并在上海的一條專有生產線上為物聯網設備制造48nm和28nm芯片。該報道還提到,上海微電子管理層近期表示,提高48nm和28nm的良率仍然是一個挑戰,但該公司現在擁有基本的自主光刻技術能力,無需美國IP來制造芯片。

          VERDICT評論稱,現在評估中國企業在光刻機領域改變市場規則還為時過早,但是上海微電子已經在一個極其困難的技術領域取得突破。

          不過,VERDICT并未透露具體信息來源。

          市場調研機構CINNO Research分析師向觀察者網表示,目前了解到的信息是,光刻機研發難點中對進度影響最大的部分是光源和物鏡,分別來自北京的科益虹源和國望光學。其中又以物鏡為最難,與德、日還有多年技術經驗積累差距,短時間內趕上相當不易。此外,為提高子系統和零部件自主化程度,反制美方“卡脖子”,整個系統還需要更多時間來完善。

          
          VERDICT報道截圖
          7月14日,上海市政府發布《上海市先進制造業發展“十四五”規劃》。其中提到,“十四五”時期將加強裝備材料創新發展,突破光刻設備、刻蝕設備、薄膜設備、離子注入設備、濕法設備、檢測設備等集成電路前道核心工藝設備。

          也許是看到中國在突破半導體設備方面的決心,阿斯麥CEO溫彼得今年4月曾向美國喊話,“如果你采取出口管制措施將中國市場拒之門外,這將迫使他們爭取技術主權(tech sovereignty),就其真正的技術主權而言……在15年的時間里,他們自己將能夠做出所有的這些東西,而且他們的市場(針對歐洲供應商的市場)將徹底消失?!?
          而《華爾街日報》認為,中國追上阿斯麥的光刻機技術至少需要10年。
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